L'effet photoréfractif est à la base des applications optiques holographiques, mais il pose également des problèmes à d'autres applications optiques. Par conséquent, l'amélioration de la résistance photoréfractive du cristal de niobate de lithium a fait l'objet d'une grande attention, parmi lesquelles la régulation du dopage est la méthode la plus importante.Contrairement au dopage photoréfractif, le dopage anti-photoréfractif utilise des éléments à valent non variable pour réduire le centre photoréfractif.En 1980, il a été signalé que la résistance photoréfractive d'un cristal de LN dopé au Mg à rapport élevé augmente de plus de 2 ordres de grandeur, ce qui a attiré une grande attention.En 1990, des chercheurs ont découvert que le LN dopé au zinc avait une résistance photoréfractive élevée similaire au LN dopé au magnésium.Plusieurs années plus tard, les LN dopés au scandium et à l'indium présentaient également une résistance à la photoréfraction.

En 2000, Xu et al.découvert que hautrapport Mg-dopéLNcristal à haute résistance photoréfractive dans la bande visible hasexcellentes performances photoréfractives dans la bande UV.Cette découverte a brisé la compréhension delarésistance photoréfractive deLNcristal, et a également rempli le blanc des matériaux photoréfractifs appliqués dans la bande ultraviolette.La longueur d'onde plus courte signifie que la taille du réseau holographique peut être plus petite et plus fine, et peut être dynamiquement effacée et écrite dans le réseau par la lumière ultraviolette, et lue par la lumière rouge et la lumière verte, afin de réaliser l'application de l'optique holographique dynamique .Lamarque et al.adopté la hauterapport Mg-dopéLN cristal fourni par l'Université de Nankai comme photoréfractif UVMatérielet réalisé un marquage laser bidimensionnel programmable en utilisant une amplification de lumière couplée à deux ondes.

Au début, les éléments dopants anti-photoréfractifs comprenaient des éléments divalents et trivalents tels que le magnésium, le zinc, l'indium et le scandium.En 2009, Kong et al.dopage anti-photoréfractif développé à l'aide de tetraéléments valents tels que l'hafnium, le zirconium et l'étain.Lors de l'obtention de la même résistance photoréfractive, par rapport aux éléments dopés divalents et trivalents, la quantité de dopage des éléments tétradvalents est inférieure, par exemple, 4,0 % en moles de hafnium et 6,0 % en moles de magnésium dopéLNles cristaux ont similarrésistance photoréfractive,2.0 % en mole de zirconium et 6.5 mol% magnésium dopéLNles cristaux ont similarrésistance photoréfractive.De plus, le coefficient de ségrégation du hafnium, du zirconium et de l'étain dans le niobate de lithium est plus proche de 1, ce qui est plus favorable à la préparation de cristaux de haute qualité.

LN de haute qualité développé par WISOPTIC [www.wisoptic.com]